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真空等離子體設備清洗產品前必須要做的準備有哪些?
- 分類:技術支持
- 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源:低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間:2021-08-14
- 訪問量:
【概要描述】真空等離子體設備清洗產品前必須要做的準備有哪些? 一、真空等離子體設備的工作原理 真空等離子體設備以氣體為清理介質,能有效地避免液體清理介質對清理物件的再次污染。利用外接進口真空泵,清理腔體內的等離子體沖刷待清理物件的的表面,可以在短時間內徹底清理有(機)污染物。同時污染物被進口真空泵抽走,從而達到清理的目的。在特定的環境中,其屬性可以根據不同的產品的表面而改變。等離子體使用于產品的表面,重組產品的表面的分子化學鍵,形成新的的表面特性。 二、真空等離子體設備的基本構造 根據真空等離子體設備使用的需要,可以選擇多種結構的真空等離子體設備,也可以選擇無用氣型,通用的調節裝置包括真空室、進口真空泵、高頻電源、接觸器、氣體輸入系統、工作輸送系統和控制系統等。進口真空泵一般采用旋轉泵,高頻電源一般采用13.56兆赫無線電波。 三、真空等離子體設備工作流程 1.清潔后的工件送入真空室并固定好,啟動運轉裝置,開始排氣,使真空室的真空度達到一百帕標準真空。通常的排氣時間大約2毫秒。 2.向真空室中注入等離子清洗用的氣體,并保持壓力為一百帕。根據不使用的清潔產品,可以選擇O2、N2或Ar2。 3.對真空室電極和接地裝置之間施加高頻電壓,會引起氣體破裂,產生離子化使用,使電漿利用輝光放電產生電漿。將真空室產生的等離子體完(全)覆蓋在處理后的工件上,真空等離子體設備開始清理運作。一般的清理過程會持續幾十秒到幾分鐘。 4.真空等離子體設備清潔完畢后,切斷高頻電壓,把氣體和蒸發的污物排出,同時把氣體壓入真空室內,使空氣壓力升高,使空氣壓力上升。
真空等離子體設備清洗產品前必須要做的準備有哪些?
【概要描述】真空等離子體設備清洗產品前必須要做的準備有哪些?
一、真空等離子體設備的工作原理
真空等離子體設備以氣體為清理介質,能有效地避免液體清理介質對清理物件的再次污染。利用外接進口真空泵,清理腔體內的等離子體沖刷待清理物件的的表面,可以在短時間內徹底清理有(機)污染物。同時污染物被進口真空泵抽走,從而達到清理的目的。在特定的環境中,其屬性可以根據不同的產品的表面而改變。等離子體使用于產品的表面,重組產品的表面的分子化學鍵,形成新的的表面特性。
二、真空等離子體設備的基本構造
根據真空等離子體設備使用的需要,可以選擇多種結構的真空等離子體設備,也可以選擇無用氣型,通用的調節裝置包括真空室、進口真空泵、高頻電源、接觸器、氣體輸入系統、工作輸送系統和控制系統等。進口真空泵一般采用旋轉泵,高頻電源一般采用13.56兆赫無線電波。
三、真空等離子體設備工作流程
1.清潔后的工件送入真空室并固定好,啟動運轉裝置,開始排氣,使真空室的真空度達到一百帕標準真空。通常的排氣時間大約2毫秒。
2.向真空室中注入等離子清洗用的氣體,并保持壓力為一百帕。根據不使用的清潔產品,可以選擇O2、N2或Ar2。
3.對真空室電極和接地裝置之間施加高頻電壓,會引起氣體破裂,產生離子化使用,使電漿利用輝光放電產生電漿。將真空室產生的等離子體完(全)覆蓋在處理后的工件上,真空等離子體設備開始清理運作。一般的清理過程會持續幾十秒到幾分鐘。
4.真空等離子體設備清潔完畢后,切斷高頻電壓,把氣體和蒸發的污物排出,同時把氣體壓入真空室內,使空氣壓力升高,使空氣壓力上升。
- 分類:技術支持
- 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源:低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間:2021-08-14 13:55
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真空等離子體設備清洗產品前必須要做的準備有哪些?
一、真空等離子體設備的工作原理
真空等離子體設備以氣體為清理介質,能有效地避免液體清理介質對清理物件的再次污染。利用外接進口真空泵,清理腔體內的等離子體沖刷待清理物件的的表面,可以在短時間內徹底清理有(機)污染物。同時污染物被進口真空泵抽走,從而達到清理的目的。在特定的環境中,其屬性可以根據不同的產品的表面而改變。等離子體使用于產品的表面,重組產品的表面的分子化學鍵,形成新的的表面特性。
二、真空等離子體設備的基本構造
根據真空等離子體設備使用的需要,可以選擇多種結構的真空等離子體設備,也可以選擇無用氣型,通用的調節裝置包括真空室、進口真空泵、高頻電源、接觸器、氣體輸入系統、工作輸送系統和控制系統等。進口真空泵一般采用旋轉泵,高頻電源一般采用13.56兆赫無線電波。
三、真空等離子體設備工作流程
1.清潔后的工件送入真空室并固定好,啟動運轉裝置,開始排氣,使真空室的真空度達到一百帕標準真空。通常的排氣時間大約2毫秒。
2.向真空室中注入等離子清洗用的氣體,并保持壓力為一百帕。根據不使用的清潔產品,可以選擇O2、N2或Ar2。
3.對真空室電極和接地裝置之間施加高頻電壓,會引起氣體破裂,產生離子化使用,使電漿利用輝光放電產生電漿。將真空室產生的等離子體完(全)覆蓋在處理后的工件上,真空等離子體設備開始清理運作。一般的清理過程會持續幾十秒到幾分鐘。
4.真空等離子體設備清潔完畢后,切斷高頻電壓,把氣體和蒸發的污物排出,同時把氣體壓入真空室內,使空氣壓力升高,使空氣壓力上升。
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