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講述低溫plasma設備常用的電源及溫度問題

  • 分類:業界動態
  • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
  • 來源:低溫等離子設備生產廠家
  • 發布時間:2021-08-17
  • 訪問量:

【概要描述】? ? ? ? 很多客戶會詢問plasma設備的溫度問題,主要是擔心plasma設備在處置產品或部件時會因等離子體溫過高而損壞表面。等離子體清洗時,plasma設備的火苗看上去與傳統火苗類似,但plasma設備使用中頻電源時,功率高,能量強,不加水的冷卻溫度也高,清洗材料不耐溫時需要注意溫度。 ? ? ? ? ?plasma設備常用的電源有兩種,一種是13.56KHz的射頻電源,這種電源產生的等離子密度高,能量柔和,溫度低,功率一般為1~2KW,大的可達5KW,小的可達幾百W,是用得多的N2電源;另一種是40KHz的中頻電源,這種電源與射頻電源正好相反,等離子的密度不高,但強度大,能量高,高度高,功率也高,大功率可達幾十KW,甚至從理論上講,幾百KW,常用作除渣、刻蝕,真空plasma設備如果使用中頻電源,需要加水冷,這也是plasma設備常用的電源。 ? ? ? ?射頻plasma設備的溫度和平時室內的溫度差不多。當然,如果真空機整天不間斷使用,還是要加水冷系統。等離子射流的平均溫度約為200-250℃。如果距離和速度設定正確,表面溫度可達70-80℃左右。因此,該技術可用于所有標準材料(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體)、射頻plasma設備通常用于改造成流水線在線設備,射流型plasma設備由于流水線不斷運轉,材料不會在噴嘴下停留太長時間,因為如果材料在噴嘴下停留太長時間,材料就會燒焦。一些射流plasma設備也使用N2,因為N2產生的等離子體溫度相對較低。溫度是物體的冷熱程度,從微觀角度來看,溫度是粒子運動的量。溫度越高,粒子的平均動能越大,反之亦然。在等離子體中,通常直接用粒子的平均能量來表示溫度,當電子(荷電為1.6×10-19庫侖)在靜電場中通過電位差為1伏特時,電子從靜電場中得到的能量。 ?

講述低溫plasma設備常用的電源及溫度問題

【概要描述】? ? ? ? 很多客戶會詢問plasma設備的溫度問題,主要是擔心plasma設備在處置產品或部件時會因等離子體溫過高而損壞表面。等離子體清洗時,plasma設備的火苗看上去與傳統火苗類似,但plasma設備使用中頻電源時,功率高,能量強,不加水的冷卻溫度也高,清洗材料不耐溫時需要注意溫度。
? ? ? ? ?plasma設備常用的電源有兩種,一種是13.56KHz的射頻電源,這種電源產生的等離子密度高,能量柔和,溫度低,功率一般為1~2KW,大的可達5KW,小的可達幾百W,是用得多的N2電源;另一種是40KHz的中頻電源,這種電源與射頻電源正好相反,等離子的密度不高,但強度大,能量高,高度高,功率也高,大功率可達幾十KW,甚至從理論上講,幾百KW,常用作除渣、刻蝕,真空plasma設備如果使用中頻電源,需要加水冷,這也是plasma設備常用的電源。
? ? ? ?射頻plasma設備的溫度和平時室內的溫度差不多。當然,如果真空機整天不間斷使用,還是要加水冷系統。等離子射流的平均溫度約為200-250℃。如果距離和速度設定正確,表面溫度可達70-80℃左右。因此,該技術可用于所有標準材料(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體)、射頻plasma設備通常用于改造成流水線在線設備,射流型plasma設備由于流水線不斷運轉,材料不會在噴嘴下停留太長時間,因為如果材料在噴嘴下停留太長時間,材料就會燒焦。一些射流plasma設備也使用N2,因為N2產生的等離子體溫度相對較低。溫度是物體的冷熱程度,從微觀角度來看,溫度是粒子運動的量。溫度越高,粒子的平均動能越大,反之亦然。在等離子體中,通常直接用粒子的平均能量來表示溫度,當電子(荷電為1.6×10-19庫侖)在靜電場中通過電位差為1伏特時,電子從靜電場中得到的能量。
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  • 分類:業界動態
  • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
  • 來源:低溫等離子設備生產廠家
  • 發布時間:2021-08-17 15:06
  • 訪問量:
詳情

        很多客戶會詢問plasma設備的溫度問題,主要是擔心plasma設備在處置產品或部件時會因等離子體溫過高而損壞表面。等離子體清洗時,plasma設備的火苗看上去與傳統火苗類似,但plasma設備使用中頻電源時,功率高,能量強,不加水的冷卻溫度也高,清洗材料不耐溫時需要注意溫度。
 
plasma設備        plasma設備常用的電源有兩種,一種是13.56KHz的射頻電源,這種電源產生的等離子密度高,能量柔和,溫度低,功率一般為1~2KW,大的可達5KW,小的可達幾百W,是用得多的N2電源;另一種是40KHz的中頻電源,這種電源與射頻電源正好相反,等離子的密度不高,但強度大,能量高,高度高,功率也高,大功率可達幾十KW,甚至從理論上講,幾百KW,常用作除渣、刻蝕,真空plasma設備如果使用中頻電源,需要加水冷,這也是plasma設備常用的電源。
       射頻plasma設備的溫度和平時室內的溫度差不多。當然,如果真空機整天不間斷使用,還是要加水冷系統。等離子射流的平均溫度約為200-250℃。如果距離和速度設定正確,表面溫度可達70-80℃左右。因此,該技術可用于所有標準材料(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體)、射頻plasma設備通常用于改造成流水線在線設備,射流型plasma設備由于流水線不斷運轉,材料不會在噴嘴下停留太長時間,因為如果材料在噴嘴下停留太長時間,材料就會燒焦。一些射流plasma設備也使用N2,因為N2產生的等離子體溫度相對較低。溫度是物體的冷熱程度,從微觀角度來看,溫度是粒子運動的量。溫度越高,粒子的平均動能越大,反之亦然。在等離子體中,通常直接用粒子的平均能量來表示溫度,當電子(荷電為1.6×10-19庫侖)在靜電場中通過電位差為1伏特時,電子從靜電場中得到的能量。

 

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