深圳市誠峰智造有限公司，歡迎您！
電話：13632675935/0755-3367 3020
新聞中心
講述低溫plasma設備常用的電源及溫度問題
- 分類：業界動態
- 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源：低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間：2021-08-17
- 訪問量：
【概要描述】? ? ? ? 很多客戶會詢問plasma設備的溫度問題，主要是擔心plasma設備在處置產品或部件時會因等離子體溫過高而損壞表面。等離子體清洗時，plasma設備的火苗看上去與傳統火苗類似，但plasma設備使用中頻電源時，功率高，能量強，不加水的冷卻溫度也高，清洗材料不耐溫時需要注意溫度。 ? ? ? ? ?plasma設備常用的電源有兩種，一種是13.56KHz的射頻電源，這種電源產生的等離子密度高，能量柔和，溫度低，功率一般為1~2KW，大的可達5KW，小的可達幾百W，是用得多的N2電源；另一種是40KHz的中頻電源，這種電源與射頻電源正好相反，等離子的密度不高，但強度大，能量高，高度高，功率也高，大功率可達幾十KW，甚至從理論上講，幾百KW，常用作除渣、刻蝕，真空plasma設備如果使用中頻電源，需要加水冷，這也是plasma設備常用的電源。 ? ? ? ?射頻plasma設備的溫度和平時室內的溫度差不多。當然，如果真空機整天不間斷使用，還是要加水冷系統。等離子射流的平均溫度約為200-250℃。如果距離和速度設定正確，表面溫度可達70-80℃左右。因此，該技術可用于所有標準材料(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體)、射頻plasma設備通常用于改造成流水線在線設備，射流型plasma設備由于流水線不斷運轉，材料不會在噴嘴下停留太長時間，因為如果材料在噴嘴下停留太長時間，材料就會燒焦。一些射流plasma設備也使用N2，因為N2產生的等離子體溫度相對較低。溫度是物體的冷熱程度，從微觀角度來看，溫度是粒子運動的量。溫度越高，粒子的平均動能越大，反之亦然。在等離子體中，通常直接用粒子的平均能量來表示溫度，當電子(荷電為1.6×10-19庫侖)在靜電場中通過電位差為1伏特時，電子從靜電場中得到的能量。 ?
講述低溫plasma設備常用的電源及溫度問題
【概要描述】? ? ? ? 很多客戶會詢問plasma設備的溫度問題，主要是擔心plasma設備在處置產品或部件時會因等離子體溫過高而損壞表面。等離子體清洗時，plasma設備的火苗看上去與傳統火苗類似，但plasma設備使用中頻電源時，功率高，能量強，不加水的冷卻溫度也高，清洗材料不耐溫時需要注意溫度。
? ? ? ? ?plasma設備常用的電源有兩種，一種是13.56KHz的射頻電源，這種電源產生的等離子密度高，能量柔和，溫度低，功率一般為1~2KW，大的可達5KW，小的可達幾百W，是用得多的N2電源；另一種是40KHz的中頻電源，這種電源與射頻電源正好相反，等離子的密度不高，但強度大，能量高，高度高，功率也高，大功率可達幾十KW，甚至從理論上講，幾百KW，常用作除渣、刻蝕，真空plasma設備如果使用中頻電源，需要加水冷，這也是plasma設備常用的電源。
? ? ? ?射頻plasma設備的溫度和平時室內的溫度差不多。當然，如果真空機整天不間斷使用，還是要加水冷系統。等離子射流的平均溫度約為200-250℃。如果距離和速度設定正確，表面溫度可達70-80℃左右。因此，該技術可用于所有標準材料(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體)、射頻plasma設備通常用于改造成流水線在線設備，射流型plasma設備由于流水線不斷運轉，材料不會在噴嘴下停留太長時間，因為如果材料在噴嘴下停留太長時間，材料就會燒焦。一些射流plasma設備也使用N2，因為N2產生的等離子體溫度相對較低。溫度是物體的冷熱程度，從微觀角度來看，溫度是粒子運動的量。溫度越高，粒子的平均動能越大，反之亦然。在等離子體中，通常直接用粒子的平均能量來表示溫度，當電子(荷電為1.6×10-19庫侖)在靜電場中通過電位差為1伏特時，電子從靜電場中得到的能量。
?
- 分類：業界動態
- 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源：低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間：2021-08-17 15:06
- 訪問量：
詳情
很多客戶會詢問plasma設備的溫度問題，主要是擔心plasma設備在處置產品或部件時會因等離子體溫過高而損壞表面。等離子體清洗時，plasma設備的火苗看上去與傳統火苗類似，但plasma設備使用中頻電源時，功率高，能量強，不加水的冷卻溫度也高，清洗材料不耐溫時需要注意溫度。
plasma設備常用的電源有兩種，一種是13.56KHz的射頻電源，這種電源產生的等離子密度高，能量柔和，溫度低，功率一般為1~2KW，大的可達5KW，小的可達幾百W，是用得多的N2電源；另一種是40KHz的中頻電源，這種電源與射頻電源正好相反，等離子的密度不高，但強度大，能量高，高度高，功率也高，大功率可達幾十KW，甚至從理論上講，幾百KW，常用作除渣、刻蝕，真空plasma設備如果使用中頻電源，需要加水冷，這也是plasma設備常用的電源。
射頻plasma設備的溫度和平時室內的溫度差不多。當然，如果真空機整天不間斷使用，還是要加水冷系統。等離子射流的平均溫度約為200-250℃。如果距離和速度設定正確，表面溫度可達70-80℃左右。因此，該技術可用于所有標準材料(金屬、陶瓷、玻璃、塑料、彈性體)、射頻plasma設備通常用于改造成流水線在線設備，射流型plasma設備由于流水線不斷運轉，材料不會在噴嘴下停留太長時間，因為如果材料在噴嘴下停留太長時間，材料就會燒焦。一些射流plasma設備也使用N2，因為N2產生的等離子體溫度相對較低。溫度是物體的冷熱程度，從微觀角度來看，溫度是粒子運動的量。溫度越高，粒子的平均動能越大，反之亦然。在等離子體中，通常直接用粒子的平均能量來表示溫度，當電子(荷電為1.6×10-19庫侖)在靜電場中通過電位差為1伏特時，電子從靜電場中得到的能量。
關鍵詞：
掃二維碼用手機看
